PatentDB.ru — поиск по патентным документам

ФОНГ Джон Вай (US)

Изобретатель ФОНГ Джон Вай (US) является автором следующих патентов:

Свободная от сурьмы фотоотверждаемая полимерная композиция и трехмерное изделие

Свободная от сурьмы фотоотверждаемая полимерная композиция и трехмерное изделие

Изобретение относится к фотоотверждаемой композиции для трехмерного изделия, содержащей в % мас. (а) катионно-отверждаемый компонент, содержащий оксетановое соединение 35-80; (b) свободнорадикально-активный компонент, содержащий поли(мет)акрилат, который не является дипентаэритритгексаакрилатом 15-60; (с) свободный от сурьмы катионный фотоинициатор 0,1-10; (d) свободнорадикальный фотоинициатор 0,...

2408627

Фотоотверждаемые композиции для получения абс-подобных изделий

Фотоотверждаемые композиции для получения абс-подобных изделий

Настоящее изобретение относится к фотоотверждаемой композиции для получения трехмерных изделий и может применяться в процессе быстрого макетирования при получении реальных изделий, спроектированных на компьютере. Предложенная композиция содержит 30-80% вес. эпоксисодержащего соединения; 5-40% вес. дифункционального (мет)акрилата; катионный фотоинициатор; свободно-радикальный фотоинициатор; необяз...

2431879