ЛОКА Марк-Андре (CA)
Изобретатель ЛОКА Марк-Андре (CA) является автором следующих патентов:
![Реакционноспособные полимерные частицы, поглощающие инфракрасное излучение в ближней области, способы их получения и их применение Реакционноспособные полимерные частицы, поглощающие инфракрасное излучение в ближней области, способы их получения и их применение](/img/empty.gif)
Реакционноспособные полимерные частицы, поглощающие инфракрасное излучение в ближней области, способы их получения и их применение
Изобретение относится к полимерным частицам, пригодным для покрытий печатных пластин. Предложены полимерные частицы, имеющие размер между 60 и 1000 нм и содержащие полимер, который содержит гидрофобную основную цепь, образованную по меньшей мере одним сегментом, поглощающим инфракрасное излучение в ближней области, соединенным с хромофором, поглощающим инфракрасное излучение в ближней области, им...
2434024![Галлотанниновые соединения в композициях для покрытия литографических печатных форм Галлотанниновые соединения в композициях для покрытия литографических печатных форм](/img/empty.gif)
Галлотанниновые соединения в композициях для покрытия литографических печатных форм
Изобретение относится к новым галлотанниновым соединениям, включающим галлотаннин, в котором по меньшей мере одна гидроксильная группа замещена заместителем, причем данный заместитель включает молекулу, олигомер или полимер, которые используют в покрытиях литографических печатных форм, галлотаннин или другое галлотанниновое соединение, при этом заместители связаны с галлотаннином непосредственно...
2487882![Сополимеры для чувствительных в ближней инфракрасной области излучения композиций для покрытия позитивных термических литографических печатных форм Сополимеры для чувствительных в ближней инфракрасной области излучения композиций для покрытия позитивных термических литографических печатных форм](/img/empty.gif)
Сополимеры для чувствительных в ближней инфракрасной области излучения композиций для покрытия позитивных термических литографических печатных форм
Настоящее изобретение относится к термическим литографическим печатным формам и их покрытиям. Описан сополимер, имеющий общую формулу, представленную ниже, где a, b, c и d являются молярными соотношениями, варьирующими между приблизительно 0,01 и приблизительно 0,90; А1 представляет мономерные единицы, содержащие цианосодержащую подвешенную группу, в которой циано не является присоединенным непо...
2559050![Сополимеры, полимерные частицы, содержащие упомянутые сополимеры, и сополимерные связующие для композиций радиационно-чувствительных покрытий для негативных копировальных радиационно-чувствительных литографических печатных форм Сополимеры, полимерные частицы, содержащие упомянутые сополимеры, и сополимерные связующие для композиций радиационно-чувствительных покрытий для негативных копировальных радиационно-чувствительных литографических печатных форм](https://img.patentdb.ru/i/200x200/c48e726826057e05f7c6e953756bf5a2.jpg)
Сополимеры, полимерные частицы, содержащие упомянутые сополимеры, и сополимерные связующие для композиций радиационно-чувствительных покрытий для негативных копировальных радиационно-чувствительных литографических печатных форм
Изобретение описывает сополимер, содержащий мономерные звенья А, имеющие цианосодержащую боковую группу, мономерные звенья В, имеющие алкильную и арильную пленкообразующую боковую группу, мономерные звенья С, имеющие боковую цепь, содержащую поли(этиленгликоль), поли(пропиленгликоль) и/или статистический поли(этиленгликоль-пропиленгликоль) и необязательно мономерные звенья D, имеющие по меньшей...
2571098