РАЗУВАЕВ Г.А.

  ОП ИСАНИЕ ИЗОБРЕТЕН ИЯ Р Союз Советских Социалистимеских Республик I (») 456450 (61) Дополнительное к авт. свид-ву (22) Заявлено 18.07.73 (21) 1949879/23-4 с присоединением заявки М (23) Приоритет (43) Опубликовано 05.08.76 Бюллетень № 29 (45) Дата опубликования описания 15.11.76 (51) М. Кл, 2 В Cl 7 21jGO Государственный комитет Совета Министров СССР оо делам изобретений и...

  ОПИСАНИЕ ИЗОБРЕТЕНИЯ К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ Союз Советскик Социалистических республик о11526165 1 (61) Дополнительное к авт. саид-ву ,(22) Заявлено 290771 (21) 1678902/05 с присоединением заявки Йо 1756899/05 (23) Приоритет (51)М. Кл.2 С 08 F 4/42 Государственный комитет СССР по делам изобретений и открытий (53) УДК 678 .74 (088. 8) Опубликовано 15.08.79. Бюллетень М 30...

  Союз Советскии С о 4иалистйческик Республик 3) 4К 547. 258..11 (088.8) (Г,А. Разуваев, В. И. Церба".oâ, H. Å. Столясоова„ О. С. Дьячков ская, А, А. Анк .и., ов В. ф, Су,;ирнов и А.14. Кери ев {72) Авторы изобретения Институт химии АН СССР и Горьковский государственный университе= им. H.H, Лобаче"oêoãо (71) Заявители (54) И-ТРИЭТИЛСТАННИЛВНЫЕ ПРОИБВОтц- -)Е ИМИДОВ ЗАИЕЩЕННОИ...

  I ,. г .. юн «У (ii) 681 822 Союз Советских Социалистических Республик К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ (б1) Дополнительное к авт. свид-ву 1 (22) Заявлено 31.01.78 (21) 2577067/23-04 (51) М. Кл. С 07F 7/22 А 01N 9/20 с присоединением заявки № (53) УДК 547.258.11 (088.8) по делам изо ретений изобретений (43) Опубликовано 30.04.80. Бюллетень j>" )6 и открытий (45) Дата опубликован...

  НЕГАТИВНЫЙ ФОТОРЕЗИСТ, включающий полиэфир, содержащий светочувствительные группировки вида (dH dHJ -dgHs -dII о гд& п J-3 например поливинилциннамат, сенсибилизатор и растворители, отличающийся тем, что, с целью повышения стабильности и разрешающей способности фоторезиста и повышения качества воспроизведения субмикронных элементов, в своем составе фоторезист дополнительн...

  ПОЗИТИВНЫЙ ФОТОРЕЗИСТ, вклю .чающий сульфоэфиро-нафтодиазохинона,. новолачную смолу и растворитель, отличающийся тем, что. с целью повышения стабильности разрешающей способности и качества воспроизведения субмикронных элементов , в своем составе фоторезист дополнительно содержит комплексообразующую добавку, например йод или тетрадианэтилен , или тринитрофенол, или тетрацианхиноди...