PatentDB.ru — поиск по патентным документам

ШИШКИНА ВАЛЕНТИНА АНДРЕЕВНА

Изобретатель ШИШКИНА ВАЛЕНТИНА АНДРЕЕВНА является автором следующих патентов:

Устройство для изготовления гравюр на матрицах штампов

Устройство для изготовления гравюр на матрицах штампов

  ii 456673 ОПИСАНИЕ ИЗОБРЕТЕН ИЯ К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ Саки Советских Сац".гиистииеских расаураик (61) Зависимое от авт. свидетельства (22) Заявлено 18.05.72 (21) 1785243/25-27 с присоединением заявки Хе (32) Приоритет Опубликовано 15.01.75. Бюллетень М 2 Дата опубликования описания 04.01.75 (51) М. Кл. В 21k 5/20 В 21j 5/12 Государственный комитет Совета Иинистрсв СССР...

456673

Матрица для изготовления одноступенчатых фазовых оптических элементов

Матрица для изготовления одноступенчатых фазовых оптических элементов

  1 ЕСЕС((е) 1с) ц, )тублин ИЗОБРЕТЕН ИЯ К АВТОРСКОМУ СВИДЮП:ЛЬСТВУ (61) Дополнительное к авт. Свид-ву (22) Заявлено28.03.77 (21) 2465961/23-05 с присоединением заявки ¹ (23) Приоритет (43) Опубликовано 05.10.78.Б)оллетень № 37 (45) Дата опубликования описания 12.09.1З. (51) М. Кл. В 29 D 11/00 B 29 С 1/00 Государственный комитет Совета Министров СССР по дела)и изобретений и от...

626967

Матрица для изготовления одноступенчатых фазовых оптических элементов

Матрица для изготовления одноступенчатых фазовых оптических элементов

  J,ÒÅÍ" }М ъ цщц q; . „ . чблиотеиа М п>6 6968 (61) Дополнительное к авт. свид-ву (>) Заивлвио28.03.77 (>>) 2467062/23-05 2 (51) И. Кл. В 29011/00 B 2S С 1/00 с присоединением заявки № (23) Приоритет Гкудерстееииый иемитет ьееете Мииистрев ььер ео делам изееретеиий и етирьпий (43) Опубликовано 05.10.7ЯБюллетень Зче 37 ) (45) Дата опубликования описания l2.09.7в. (53) УДК 678...

626968

Способ изготовления сенситометрического клина

Способ изготовления сенситометрического клина

  СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ СЕНСИТОМЕТРИЧЕСКОГО КЛИНА, включающий нанесение на профилированную . матрицу слоя пленкообразующего вещества , содержащего коллоидный графит, наложение стеклянной пластинки поверх пленкообразукицего слоя и отделение матрицы, отличающийся тем, что, с целью увеличения механической прочности, теплоивлагостойкости сенситометрического клина, в качестве пленкообразу...

1182479

Способ изготовления нейтральных светофильтров

Способ изготовления нейтральных светофильтров

  Изобретение относится к области фотогра ческой сенситометрии и позволяет снизить разброс значений диффузных оптических плотностей в области длин волн 420-650 нм. При изготовлении нейтрального светофильтра в полимеризационноспособный пленкообразующий материал с вязкостью 400-2000 сП вводят спиртовую суспентзию коллоидного графита. Введение в суспензию 0,2-6 мас.% графита от массы...

1269066


Способ изготовления сенситометрического клина

Способ изготовления сенситометрического клина

  Изобретение относится к фотографической сенситометрии и позволяет снизить разброс диффузных оптических плотностей в диапазоне длин волн 400- 800 нм. На профилированную матрицу наносят смесь из полимеризуемого пленкообразующего и наполнителя, поверх которой накладывают стеклянную пластину. В качестве пленкообразующего использован олигокарбонатмета--;. крилат или диметакрилат-бис-(...

1413587

Способ изготовления нейтральных светофильтров

Способ изготовления нейтральных светофильтров

  Изобретение относится к фотографической сенситометрии и используется для поверки микроденситометров. Целью изобретения является снижение коэффициента светорассеяния нейтральных светофильтров при сохранении их неселективности. Изобретение позволяет получать нейтральные светофильтры с коэффициентом светорассеяния 1,15-1,30 и разбросом значений диффузных зональных плотностей в преде...

1624382