G03F7/038 - высокомолекулярные соединения, обрабатываемые для придания нерастворимости или различной смачиваемости (G03F 7/075 имеет преимущество; полиазиды G03F 7/012; соединения полидиазония G03F 7/021)

Композиция и способ ее отверждения

Изобретение относится к основно-катализируемым отверждаемым композициям на основе эпоксидных соединений. Композиция включает: (А) 0,1-20% от массы композиции латентного катализатора основного типа - -аминоацетофенона общей формулы (I) (В) эпоксидное соединение и, по меньшей мере, одно соединение, способное вступать в реакцию с эпоксидным соединением, выбранным из карбоксилсодержащего сое...

2210798

Композиции для покрытий, не содержащие тяжелых металлов

Изобретение относится к УФ-отверждаемым катионно-полимеризуемым композициям, не содержащим тяжелых металлов. УФ-отверждаемая катионно-полимеризуемая композиция содержит (а) моно-, бис- или высшие алифатические или ароматические глицидиловые эфиры, (b) двуокись титана, (с) в качестве фотоинициатора, по крайней мере, одну гексафторфосфатную соль иодония формулы I где R1, R2, R3 и R4 каждый...

2219571

Придание жесткости надувным развертываемым структурам, в частности, для использования в космосе

Изобретение относится к области приборостроения. Изобретение содержит гибкую мембрану для надувных развертываемых структур, которая содержит один слой композитного материала и, по меньшей мере, одну полимерную пленку, которая является проницаемой для видимого излучения и покрывает одну из сторон указанного слоя. Композитный материал сформирован из волокнистого материала, импрегнированного композ...

2381535

Свободная от сурьмы фотоотверждаемая полимерная композиция и трехмерное изделие

Изобретение относится к фотоотверждаемой композиции для трехмерного изделия, содержащей в % мас. (а) катионно-отверждаемый компонент, содержащий оксетановое соединение 35-80; (b) свободнорадикально-активный компонент, содержащий поли(мет)акрилат, который не является дипентаэритритгексаакрилатом 15-60; (с) свободный от сурьмы катионный фотоинициатор 0,1-10; (d) свободнорадикальный фотоинициатор 0,...

2408627

Негативная фоточувствительная полимерная композиция, способ формирования паттерна и головка для выбрасывания жидкости

Изобретение относится к фоточувствительной композиции смолы, используемой для получения головки для выбрасывания жидкости для генерирования капли жидкости, например капли краски, а также к способу формирования паттерна и к головке для выбрасывания жидкости. Фоточувствительная композиция включает катионно-полимеризуемое соединение, фотогенератор кислоты, имеющую анионную часть и катионную часть,...

2495468

Светочувствительная негативная полимерная композиция

Изобретение относится к светочувствительным негативным полимерным композициям, подходящим для образования тонкой структуры фотолитографическим способом. Предложена светочувствительная негативная полимерная композиция, содержащая (a) содержащее эпоксидные группы соединение, (b) первую ониевую соль, содержащую структуру катионной части, представленную формулой (b1), и структуру анионной части, пре...

2533490

Негативный фоторезист для "взрывной" фотолитографии

Изобретение относится к негативным фоторезистам для процессов формирования топологических элементов микроэлектронных устройств с использованием «взрывной» фотолитографии. Предложена композиция негативного фоторезиста для «взрывной» фотолитографии, содержащая (мас.%) фенолоформальдегидную смолу (25,0-40,0), гексаметоксиметилмеламин (5,0-8,0), α-(4-тозилоксимино)-4-метоксибензилцианид (1,0-2,0), ор...

2648048

Патенты в этой категории