G03F7/09 - отличающиеся конструктивными элементами, например подложками, вспомогательными слоями (подложки для печатных форм вообще B41N)

Способ изготовления светочувствительногоматериала с медьсодержащей подложкойдля получения репродукций

ОПИСАН И Е ИЗОБРЕТЕНИЯ К ПАТЕНТУ (и) 429599 Союз Советский Социалистииеских Республик (61) Зависимый от патента (22) Заявлено 11.06.71 (21) 1671278/23-4 (51) М. Кл. б 03с 1/94 G 03с 1/52 (32) Приоритет 11.06.70 (31) P 20 28773.4 (33) ФРГ Опубликовано 25.05.74. Бюллетень ¹ 19 Государственный комитет Совета Министров СССР по делам изобретении и открытий (53) УДК 771.531(088.8...

429599

Фотополимерная печатная форма

Область применения: в полиграфии. Сущность изобретения: печатная форма состоит и ПЭТФ-подложки, адгезионного слоя, содержащего, мас.ч.: сополимер диметилтерефталата, этиленгликоля, диэтиленгликоля 55-65; полиэфируретановый каучук 25-35; триметилолпропантриизоцианат 5-15, и фотополимерного слоя, содержащего мас. ч. : олигоуретанакрилат 100 , металкрилат - (бис-триэтиленгликоль)фталат 5-20;...

1779170

Сухой пленочный фоторезист

Использование: изготовление печатных плат фотохимическим способом. Сущность изобретения: сухой пленочный фоторезистор (СПФ), состоящий из полиэтилентерефталатной основы, окрашенного светочувствительного слоя, защищенного полиэтиленовой пленкой, содержит полимерное связующее, растворимое в метилхлороформе 54,56 - 58,56 мас.%, сшивающие мономеры - сложные эфиры многоатомных спиртов и акрило...

2054706

Способ получения связующего для сухого пленочного фоторезиста водно-щелочного проявления

Изобретение относится к способу получения связующего для сухого пленочного фоторезиста водно-щелочного проявления, находящего применение для получения рисунка при изготовлении печатных плат в радио- и электронной промышленности, а также в качестве компонента лакокрасочных покрытий и клеев. Описывается двухстадийный способ получения связующего для сухого пленочного фоторезиста водно-щелочного прояв...

2286996

Способ изготовления подложки с резистом

Изобретение относится к способу изготовления подложки, снабженной слоем резиста с рельефной структурой, воспроизводящей дифракционную структуру. К слою резиста по меньшей мере на отдельных участках примыкает проводящий слой, который при экспонировании слоя резиста электронным лучом рассеивает первичные электроны и/или эмиттирует вторичные электроны. При осуществлении этого способа материал слоя ре...

2334261

Составная предварительно очувствленная офсетная пластина и способ производства предварительно очувствленной офсетной пластины

Изобретение относится к светочувствительным и компьютерным платам в области полиграфической промышленности и связано с технологией изготовления платы. Способ производства предварительно очувствленной офсетной пластины заключается в очистке алюминиевой основы от маслянистых веществ, в осуществлении электрохимического зернения поверхности основы для защиты от коррозии, прикреплении полимерной пленк...

2403603

Фотополимеризующийся слоистый комбинированный материал для изготовления элементов флексографской печати

Изобретение относится к фотополимеризующемуся слоистому комбинированному материалу для изготовления фотополимеризующихся цилиндрических бесконечных бесшовных элементов для флексографской печати Слоистый комбинированный материал содержит фотополимеризующийся рельефообразующий слой (а), по меньшей мере, содержащий эластомерное связующее, этиленненасыщенные мономеры и фотоинициатор, а также, при нео...

2431880

Светочувствительный слоистый полимер и его термическая обработка

Изобретение относится к вариантам способа проявления светоотверждающейся заготовки печатной формы с целью формирования рельефной структуры, содержащей множество рельефных точек. При этом в одном из вариантов светоотверждающаяся заготовка печатной формы содержит несущий слой, на котором находится по меньшей мере один светоотверждающийся слой, барьерный слой, расположенный по меньшей мере на одном...

2554935

Подложка для электронной литографии высокого разрешения и соответствующий способ литографии

Группа изобретений относится к литографии при помощи электронного пучка. Структура основания для слоя материала, предназначенного для селективной обработки по рисунку высокого разрешения, и приема электронно-чувствительного маскирующего слоя для определения рисунка содержит наслоение подложки и промежуточный слой из пористого материала с плотностью, по меньшей мере, в два раза меньшей, чем плотнос...

2632581

G03F7/09 - отличающиеся конструктивными элементами, например подложками, вспомогательными слоями (подложки для печатных форм вообще B41N)

Патенты в этой категории