Структура кристалла высоковольтного полупроводникового прибора, высоковольтной интегральной микросхемы (варианты)
Использование: полупроводниковая техника, силовая электроника, высоковольтные полупроводниковые приборы и микросхемы. Технический результат: повышенное напряжение пробоя кристалла высоковольтного прибора или микросхемы за счет уменьшенного влияния краевых полей в структуре кристалла. Сущность изобретения. Известен полупроводниковый кристалл, содержащий подложку p-типа с расположенным на ней эпитак...