Способ изготовления фотошаблона на стеклянной подложке

Способ изготовления фотошаблона на стеклянной подложке

Реферат

Способ изготовления фотошаблона на стеклянной подложке, включающий нанесение на нее пленки хрома, фотолитографию по металлу и ионное облучение, отличающийся тем, что, с целью повышения износостойкости фотошаблона, пленку перед фотолитографией облучают ионами бора или азота, или углерода с энергией, обеспечивающей средний проецированный пробег ионов (R_p) в пределах 1/3 R_p d_M, где d_M - при дозах обучения 10¹⁷-5^oC18¹⁸ион/см², а после фотолитографии нагревают фотошаблон микроволновым излучением с частотой 0,95-10 ГТц и плотностью поглощенной энергии излучения 0,5-100 Дж/см² в течение 0,1-600 с.