Способ получения слоев диоксида кремния

Способ получения слоев диоксида кремния

Реферат

Способ получения слоев диоксида кремния окислением моносилана SiH₄ кислородом O₂ в изотермическом проточном кварцевом реакторе при парциальных давлениях моносилана 0,05 - 0,5 мм рт.ст. и соотношении внутренней поверхности реактора в зоне осаждения к объему 1 - 3 см^-1, отличающийся тем, что, с целью повышения производительности процесса за счет увеличения скорости роста слоев и улучшения качества слоев путем уменьшения их пористости, процесс ведут в присутствии добавок газообразного аммиака NH₃ при соотношении NH₃/SiH₄ = 0,05 - 1, давлении в реакторе 0,3 - 3 мм рт.ст. в температурном диапазоне 70 - 300^oC и соотношении O₂/SiH₄ = 1 - 5.