Нелинейный материал для обращения волнового фронта электромагнитной волны

Реферат

 

Изобретение относится к квантовой электронике и может быть использовано в динамической голографии для преобразования волновых фронтов лазерного излучения. Цель - уменьшение плотности мощности, затрачиваемой на создание динамической дифракционной решетки. Нелинейный материал на основе кристалла фторида лития содержит F+3 и F+3* - центры к концентрациях, соответствующих коэффециентам поглощения в максимуме полосы поглощения 5 - 35 см-1 , а концентрация F2 - центров в нем не превышает величину, при которой отношение коэффициентов поглощения F2 - центров к F+3 и F+* равно 0,8.

Изобретение относится к квантовой электронике и может быть использовано в динамической голографии для преобразования волновых фронтов лазерного излучения с целью достижения высокой освещенности объектов. Цель изобретения уменьшение плотности мощности, затрачиваемой на создание динамической дифракционной решетки (ДДР), путем заселения метастабильного состояния центров окраски, а также обращения волнового фронта (ОВФ) в новой спектральной области. Испытываются кристаллы фтористого лития с примесью гидроксила, в которых -излучением создавались F2, F3+ и F3+*-центры. Суммарные коэффициенты поглощения К1 в максимуме полос поглощения F2, F3 и F3+*-центров приведены в таблице. Кристаллы облучены таким образом, чтобы после обработки их излучением 2-й гармоники АИГ Nd3 лазера коэффициенты поглощения К2 в максимуме полос F3+ и F3+*-центров находились в середине (кристалл 3), на границах (кристаллы 2 и 4) и за пределами (кристаллы 1 и 5) предлагаемого диапазона концентраций. Для данных кристаллов измеряют зависимость пропускания от плотности мощности падающего излучения. В таблице представлены значения плотности мощности падающего излучения с 0,488 мкм, при которых наступает насыщение поглощения для каждого кристалла. Здесь же (кристалл 6) для сравнения приведены соответствующие значения для кристалла LiF c F2- центрами окраски. Значения заявляемого спектрального диапазона 0,35-0,53 мкм соответствуют положению полос поглощения F3+ и F3+* -центров и выбраны таким образом, чтобы коэффициент поглощения в пределах этого диапазона не выходил за рамки предлагаемого диапазона. Как видно из таблицы, для кристаллов LiF с концентрацией F3+ и F3+* -центров, находящихся в пределах предлагаемого диапазона, плотность мощности, необходимая для насыщения поглощения, а следовательно, и для создания ДДР на 4 порядка ниже, чем для известного материала. Для кристаллов с концентрацией рабочих центров, выходящей за границы предлагаемого диапазона, положительный эффект не достигается, поскольку величина Р значительно повышается (кристалл 5) или ОБФ не достигается из-за низкого контраста ДДР, несмотря на малое значение Р (кристалл 1).

Формула изобретения

НЕЛИНЕЙНЫЙ МАТЕРИАЛ ДЛЯ ОБРАЩЕНИЯ ВОЛНОВОГО ФРОНТА ЭЛЕКТРОМАГНИТНОЙ ВОЛНЫ путем создания в нем динамической дифракционной решетки на основе кристалла флорида лития, содержащего поглощающие центры окраски, включая F2 - центры, отличающийся тем, что, с целью снижения мощности, затрачиваемой на создание в нем динамической дифракционной решетки, путем заселения метастабильных состояний, рабочих центров и расширения спектрального диапазона обращения волнового фронта, в материале дополнительно создают F+3 и F+3* центры в концентрациях, определяемых следующими выражениями: 2N2/1N1= 0,8 , где N1 концентрация F+3 и F+3* центров; N2 концентрация F2 центров; 1 сечение поглощения F+3 и F+3* центрами; 2 сечение поглощения F-2 центрами; K1 коэффициент поглощения F+3 и F+3* центрами в максимуме полосы поглощения, равный 5-35 см-1.

РИСУНКИ

Рисунок 1