Способ анизотропного травления кремния

Способ анизотропного травления кремния

Реферат

 

1. Способ анизотропного травления кремния, включающий одновременное воздействие на него потока молекул дифторида ксенона и пучка ионов, отличающийся тем, что, с целью повышения качества и скорости травления, во время воздействия кремний охлаждают до температуры ниже температуры конденсации дифторида ксенона при спонтанном травлении, но выше температуры конденсации при ионно-индуцированном травлении.

2. Способ по п.1, отличающийся тем, что, с целью снижения дефектности подложки, процесс травления проводят при плотности потока молекул дифторида ксенона 5 х 10¹⁵ - 10¹⁷ с^-1см^-2, энергии ионов в пучке 0,5 - 1,5 кэВ и плотности ионного тока 1 - 10 мкА/см².