Тимашев В.В.
Изобретатель Тимашев В.В. является автором следующих патентов:

Способ изготовления резонаторов на поверхностных акустических волнах
(19)SU(11)1228722(13)A3(51) МПК 5 H01L21/306(12) ОПИСАНИЕ ИЗОБРЕТЕНИЯк патентуСтатус: по данным на 17.01.2013 - прекратил действиеПошлина: (54) СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ РЕЗОНАТОРОВ НА ПОВЕРХНОСТНЫХ АКУСТИЧЕСКИХ ВОЛНАХ Изобретение относится к микроэлектронике, а именно к технологии изготовления резонаторов на поверхностных акустических волнах (ПАВ). Целью изобр...
1228722
Способ подстройки частоты кварцевых резонаторов на поверхностных акустических волнах
Изобретение относится к области радиоэлектроники. Целью изобретения является расширение пределов подстройки частоты и повышение ее точности. Подстройку частоты кварцевого резонатора на поверхностных акустических волнах осуществляют после измерения его частоты и сравнения ее с заданной путем его нагрева в течение 20 - 40 мин. Температуру нагрева выбирают из выражения f/fo, где Т - температ...
1313314
Резонатор на поверхностных акустических волнах
Изобретение относится к радиоэлектронике и может использоваться в резонаторах на поверхностных акустических волнах (ПАВ). Целью изобретения является повышение технологичности конструкции резонатора. Резонатор на ПАВ содержит пьезоэлектрическую подложку 1, один или несколько встречно-штыревых преобразователей (ВШП) 2 ПАВ с электродами 3, расположенными в углублениях пьезоэлектрической подл...
1313317
Способ изготовления резонаторов на поверхностных акустических волнах
Изобретение относится к радиоэлектронике. Целью изобретения является увеличения выхода годных за счет уменьшения разброса центральной частоты. В процессе формирования системы канавок отражательных решеток резонатора на поверхностных акустических волнах их дополнительно вытравливают на величину, равную 10 - 15% от заданной глубины, а перед вытравливанием электропроводящего материала из ка...
1335110
Способ получения контактной маски на прозрачной подложке
Изобретение может быть использовано на литографических операциях при изготовлении приборов на поверхностных акустических волнах. Цель изобретения - повышение точностных параметров маски за счет устранения отражения экспонирующего излучения от обратной стороны подложки (П). На обратную шлифованную поверхность (П) LiNBO3 наносится, например, вакуумным термическим напылением слой Cu. Толщина...
1398641
Способ изготовления устройств на поверхностных акустических волнах
Изобретение относится к радиоэлектронике. Цель изобретения - повышение качества изготавливаемых устройств. Способ изготовления устройств на поверхностных акустических волнах, включает формирование на пьезоэлектрической подложке токопроводящего слоя электродов и электрических шин встречно-штыревых преобразователей (ВШП), одновременное формирование между электрическими шинами ВШП токопрово...
1419474
Способ фотолитографии
Изобретение относится к микроэлектронике. Цель изобретения - увеличение процента выхода годных за счет получения в слое фоторезиста при "обратной" фотолитографии профиля с отрицательным углом наклона. На подложку наносят слой позитивного фоторезиста. Проводят его селективное экспонирование через фотошаблон. В проявитель добавляют 1 - 5 об. % растворителя фоторезиста, например ацетона или...
1450671
Способ настройки центральной частоты резонаторов на поверхностных акустических волнах
Изобретение относится к области микроэлектроники, а именно к технологии изготовления резонаторов на поверхностных акустических волнах. Цель изобретения - повышение точности настройки. Предварительную настройку частоты производят путем отжига кристаллов в атмосфере водорода при 250 - 450°С, а обработку в плазме аргона проводят в течение соответствующего времени. Проводится соотношение врем...
1750406
Способ подстройки центральной частоты приборов на поверхностных акустических волнах
Изобретение относится к области микроэлектроники, а именно к технологии изготовления приборов на поверхностных акустических волнах. Цель изобретения - повышение процента выхода годных приборов за счет увеличения точности подстройки центральной частоты прибора. В способе подстройки центральной частоты приборов на поверхностных акустических волнах, включающем измерение центральной частоты п...
1750407
Способ изготовления резонаторов на поверхностных акустических волнах
Изобретение относится к микроэлектронике, а именно к способам изготовления резонаторов на поверхностных акустических волнах. Целью изобретения является повышение процента выхода годных резонаторов за счет повышения адгезии фоторезиста к поверхности подложки. При обработке поверхности пьезоэлектрической подложки проводят ионно-химическое травление на глубину 80 - 120 нм, при этом использу...
1762727
Способ настройки центральной частоты резонаторов на поверхностных акустических волнах
Изобретение относится к микроэлектронике и может быть использовано для изготовления резонаторов на поверхностных акустических волнах. Цель изобретения - увеличение процента выхода годных резонаторов. В предложенном способе настройки центральной частоты резонаторов на поверхностных акустических волнах перед измерением центральной частоты дополнительно проводят обработку резонатора в плазм...
1783947
Способ изготовления кристаллов резонаторов на поверхностных акустических волнах
Изобретение относится к микроэлектронике и может быть использовано для изготовления резонаторов на поверхностных акустических волнах. Целью изобретения является повышение выхода годных резонаторов. Для этого в способе изготовления кристаллов резонаторов на поверхностных акустических волнах после напыления металла наносят второй слой фоторезистора, в котором вскрывают окна над структурами...
1783948