PatentDB.ru — поиск по патентным документам

Бобылев Б.А.

Изобретатель Бобылев Б.А. является автором следующих патентов:

Пространственный модулятор света с памятью

Пространственный модулятор света с памятью

 Пространственный модулятор света с памятью, состоящий из пластины полупроводника на прозрачной проводящей подложке, слоя диэлектрика на поверхности полупроводника, отличающийся тем, что, с целью модуляции с последовательным вводом информации и электрическим управлением, увеличения быстродействия, снижения рабочего напряжения, пластина полупроводника выполнена из прямозонного полупроводник...

683482

Логический элемент "или-не"

Логический элемент "или-не"

 Логический элемент "ИЛИ-НЕ", состоящий из прозрачной непроводящей подложки, на которой размещены модулятор света и фотоприемник, отличающийся тем, что, с целью снижения рабочего напряжения, увеличения быстродействия и упрощения конструкции, модулятор света и фотоприемник выполнены в виде однотипных мезаструктур, представляющих собой поверхностно-барьерные контакты Шоттковского типа на эпи...

1023973

Полупроводниковый прибор

Полупроводниковый прибор

 Полупроводниковый прибор, содержащий полупроводник из арсенида галлия p-типа проводимости, на котором сформирован барьерообразующий электрод, отличающийся тем, что, с целью повышения потенциального барьера и обеспечения прозрачности, барьерообразующий электрод выполнен из окисла индия, легированного оловом до концентрации свободных носителей заряда 1-810 см-3.

1119553

Преобразователь инфракрасного излучения в поток электронов

Преобразователь инфракрасного излучения в поток электронов

 Преобразователь инфракрасного излучения в поток электронов, содержащий расположенный на прозрачной подложке легированный полупроводниковый слой р-типа проводимости с активированной цезией и кислородом свободной поверхностью, отличающийся тем, что, с целью расширения спектрального диапазона и увеличения помехозащищенности, между легированным полупроводниковым слоем р-типа проводимости и по...

1326094

Способ определения параметров глубоких уровней в полупроводниках

Способ определения параметров глубоких уровней в полупроводниках

 1. Способ определения параметров глубоких уровней в полупроводниках, заключающийся в том, что к образцу прикладывают постоянное напряжение смещения различной величины, формирующее область обеднения, пропускают через образец высокочастотный ток с заданной амплитудой, прикладывают к образцу низкочастотное напряжение с частотой , вызывающее амплитудную модуляцию глубины области обеднения, ре...

1577627


Способ определения подвижности носителей заряда в эпитаксиальных слоях на изолирующей подложке

Способ определения подвижности носителей заряда в эпитаксиальных слоях на изолирующей подложке

 Способ определения подвижности носителей заряда в эпитаксиальных слоях на изолирующей подложке, заключающийся в создании поверхностного барьерного контакта к эпитаксиальному слою, приложении к структуре высокочастотного тестирующего напряжения и напряжения постоянного смещения, отличающийся тем, что, с целью обеспечения возможности измерения подвижности у границы раздела подложка - пленка...

1598776

Устройство для измерения параметров мдп-структур

Устройство для измерения параметров мдп-структур

 Устройство для измерения параметров МДП-структур, содержащее генератор, блок управления, первый выход которого соединен с первым входом блока смещения, второй вход которого соединен с первым выходом формирователя временных интервалов и первым входом формирователя строб-импульсов, второй вход которого соединен с выходом первого нуль-компаратора, вход которого подключен к выходу первого син...

1614712

Способ определения концентрации двумерного электронного газа

Способ определения концентрации двумерного электронного газа

 Способ определения концентрации двумерного электронного газа в квантовых ямах, включающий создание поверхностно-барьерного контакта и планарного прижимного контакта к остальной открытой поверхности полупроводниковой структуры, являющегося вторым электродом для приложения напряжения постоянного смещения и высокочастотного напряжения тестирующего сигнала, измерение вольт-фарадной характерис...

1618224

Способ определения профиля концентрации примесей в полупроводниках и устройство для его осуществления

Способ определения профиля концентрации примесей в полупроводниках и устройство для его осуществления

 1. Способ определения профиля концентрации примесей в полупроводниках, заключающийся в подаче на полупроводниковый образец напряжения смещения, одновременном освещении полупроводникового образца двумя световыми потоками с частотами f1 и f2 и регистрации возникающих в полупроводниковом образце переменных напряжений с комбинационными частотами f1 + f2 и f1 - f2, отличающийся тем, что, с цел...

1646390

Устройство для измерения характеристик полупроводников

Устройство для измерения характеристик полупроводников

 Устройство для измерения характеристик полупроводников, содержащее первый и второй источники света, оптически связанные с первым и вторым входами световода с полупрозрачным металлическим электродом, установленным на выходе световода, направленного на полупроводниковый образец, изолированный от полупрозрачного металлического электрода и подключенный к первому выходу источника смещения, пер...

1816116


Устройство для измерения характеристик полупроводников

Устройство для измерения характеристик полупроводников

 Использование: для определения добротности, концентрации легирующей примеси и глубоких примесных центров в полупроводниковых материалах, пленках и приборов (МДП-структуры, p-n-переходы, контакты металл - полупроводник, эпитаксиальные слои и др). Сущность изобретения: введение новых блоков позволяет подавать на вторую клемму для подключения полупроводника противофазное напряжение постоянно...

2007739