РОДИОНОВ РЕМ АЛЕКСАНДРОВИЧ

  Ц ) (>

  Союз Советских Социалистических Реслублмк ОП ИСАНИЕ ИЗОБРЕТЕН ИЯ К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ н :, 679923 (61) Дополнительное к авт. свил-ву (22) Заявлено 11.02.76 (21) 2324336/23-04 с присоединением заявки №вЂ” г (51) М.. Кл. 603 С 1/68 Гасударственный квинтет СССР пв делам нзебретвннй N етнрытнй (23) Приоритет Опубликовано 15.08.79. Бюллетень № 30 Дата опубликования описани...

  Союз Советских Социалистических Республик ОПИСАНИЕ ИЗОБРЕТЕНИЯ К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ li»857255 (61) Дополнительное к авт. свид-ву (22) Заявлено 080179 (21) 2709693/23-04 с присоединением заявки Йо (23) Приоритет Опубликовано 2Х08816юллетень 31 Дата опубликования описания 230831 (5! )М. Кл. С 11 0 1/83 С 11 D 7/26 Государстзеииый комитет СССР ио дедам июбретеиий и откр...

  " 887500 ОПИСАНИЕ ИЗОБРЕТЕНИЯ К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ Сееее Ьеетаких Сй@йииетичееки Ресет4йик (61) Дополиительиос к авт. свид-ву— (22) Заявлено 04.04.80 (21 ) 2904318129-33 с присоединением заявки №вЂ” (23) Приоритет— (43) Опубликовано 07.12.81. Бюллетень ¹ 45 (45) Лата опубликования описания 07.12.81. Ч K. С 03 С 23 00 Гмудлрствеииый кемищ СССР ling декам изе4ретеиий...

  {72) Авторы изобретения А.M.Màçèí, Л.Н.Шевякова, О.П.Маняхина и .. оди М,Я Р,и 1;-б1 е 4, I . l > .е: с :":1. 1 У 1 т1-з, м уи, :; (71) Заявитель . ЯГ.id !; с " (54) СОСТАВ ДЛЯ ОБРАБОТКИ СТЕКЛЯННЫХ ПЛАСТИН Изобретение относится к электрон- ной технике и может быть использовано в производстве полупроводниковых приборов и интегральных схем на стадии подготовки поверхности стек...

  Союз Советских Соцналистнческих Республик ОПИСАНИЕ ИЗОБРЕТЕНИЯ К АВТОРСТВ(ОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ < «952617 (61) Дополнительное к авт. свид-ву (22) Заявлено 21. 01. 81 (21) 3227612/29-33 (51) М Кд 3 В 28 D 1/00 с присоединением заявки НВ Госуларственный комитет СССР ио лелам изобретений и открытий (23) Приоритет t53l УДК 679. 8 (088.8) Опубликовано 2 3.08.82. Бюллетень М9 31 Да...

  СОСТАВ ДЛЯ ОЧИСТКИ ПОВЕРХНОСТИ СТЕКЛА, содержащий воду, про1изводцое угольной кислоты и комгшек; сообразователь, отличающийс я тем, чтог с целью повышения степени очистки поверхности, состав ;содержит в качестве комплексообразо;вателя смесь тетракалиевой роли этйлендиаминтетрауксусной кисло1ъ1 с трикалиевой солью нитрилотриуксуснЬй кислоты в их молярном соотношенииг 1:6 и в качес...

  СОЮЗ СОВЕТСКИХ СОЦИАЛИСТИЧЕСКИХ РЕСПУБЛИН (19) (11) (5D 4 В 24 0 11/02 ОПИСАНИЕ ИЗОБРЕТЕНИЯ К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ ГОСУДАРСТВЕННЫЙ КОМИТЕТ СССР ПО ДЕЛАМ ИЗОБРЕТЕНИЙ И OTHPblTHЙ (21) 3726362/25-08 (22) 16.04.84 (46) 23.02.86 .Бюл.М 7 (72) А.М.Мазин, P.À.Родионов, В.А.Смирнова и Д.Д.Мозжухин (53) 621.922.079(088.8) (56) Патент Франции lp- 1602106, кл. В 24 cI,1970. Заявк...

  Изобретение относится к производству изделий микроэлектроники и может быть использовано для получения тонкопленочных покрытий на пластинах, например, при изготовлении фотошаблонов. Цель изобретения - улучшение качества изделий достигается за счет обеспечения подачи пластин на позицию обработки в строго ориентированном положении при минимальном контакте элементов устройства с повер...

  Изобретение относится к обработке изделий из стекла и может быть использовано при подготовке поверхности стеклянных заготовок после операции механической обработки. С целью повышения качества обработки поверхности состав для обработки изделий из стекла содержит следующие компоненты, мас.%: лимонная кислота 0,5 - 1,0 комплексообразующее соединение 0,05 - 0,1 фторид аммония 0,05 - 0...

  Изобретение относится к измерительной технике и может быть использовано для оценки плоскостности поверхности пластины . Цель изобретения - повышение точности и производительности контроля за счет исключения ошибки неточности базирования контролируемой пластины и возможности определения отклонения от плоскостности всей пластины. Контроль плоскостности поверхности пластины включает...

  Использование: изобретение может быть применено при обработке подложек, используемых при изготовлении фотошаблонных заготовок. Сущность: способ включает размещение подложек на подложкодержателе в вертикальном положении с определенным интервалом, выдержку в парах воды при температуре 100-105&deg;С и давлении (1.02-1,025)- 105Н/м2 в течение определенного времени и вертикальное...