Способ получения ориентированных пленок кремния на окисленном кремнии методом боковой эпитаксии
Изобретение относится к выращиванию пленок кремния, может быть использовано в электронной технике для производства полупроводниковых интегральных схем или чувствительных элементовтензопреобразователей на базе структур кремний на диэлектрике и позволяет повысить выход годных пленок за счет устранения пирамид роста на подложке. Пластину кристаллического кремния окисляют, затем в ок...