Устройство для продувки камеры

Устройство для продувки камеры

Иллюстрации

Показать все

Реферат

 

СОЮЗ СОВЕТСНИХ

СОЦИАЛИСТИЧЕСНИХ

РЕСПУБЛИК (19) (И1 (S1)5 С 30 В 25 08

ОПИСАНИЕ ИЭОБРЕТЕНИЖГОСУДАРСТВЕННЫЙ НОМИТЕТ СССР

ПО ДЕЛАМ ИЗОбРЕТЕНИЙ И ОТНРЫТИЙ

Н А ВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ (46) 15.07.93. Бюл. 1 26 (21) 4023121/26 (22) 11.02,86 (72) В.Н.Глущенко, К.И.Гордиенко, Г.И.Грищук, В.А.Жариков и В.ф.Колесников (56) Бургер P., Донован P. Основы технологии кремниевых интегральных . схем-окисление, диффузия, эпитаксия, М.: Мир, 1969, с.180-!81, рис.4,15, с.261-263, рис.7,4. (54) УСТРОЙСТВО ДЛЯ ПРОДУВКИ KAMEPbl (57) Изобретение относится к средствам очистки реакционных камер (К), используемых для проведения химикотехнологических процессов, и обеспечивает повышение эффективности очистки стенок К, Устройство содержит патрубок (П) с отражателем, закреплен-, ным перед выходным отверстием Л. Отражатель снабжен крышкой, размещенной на торце D. По периметру крышки выполнены отверстия под углом 35о

80 к оси П. Суммарная площадь поперечного сечения отверстий крышки равна нли меньше площади поперечного сечения выходного отверстия П. Рас стояния между-отверстиями крышки и между ними и стенкой К не более утроенного диаметра отверстия. В обеспыпенной согласно.изобретению камере получены Подзатнорные диэлек0 трики двуокиси кремния толщиной 750 А с пористостью 4-5 пор,см . I нл, 1 138030.1 ?

ИзобрРте!г(!е отгн3ситсн к иикрозлектроггггкР z! может быть использовано

npzt проведении хим! !ко техлолО Гическ их процессов в реакционных камерах.

Пель!о изобретения является повы5 шР»ие эффективности Очистки стРИОК камеры.

На чертеже изображено устройство, продольный разрез. 10

Устройство содержит патрубок 1 для подачи газа, снабженный отражателем

2, эакрРппенным перед Bbtx0pztblbt от"верст!(ем 3 патрубка 1, Отражатель 2 снабжен крыпгкой 4, размещен«(ой на торце вьгходного отверстия 3 патрубка 1. Ио периметру крышки 4 выполнены отверстия 5 под углои 35-80 к оси

0 патрубка 1 „Устройс гво ус тано!3лено .с зозможпостью осевого перемепгения в 20 камере 6, ииегощей патрубок 7 для пода и! газа. Дпя QTIJîäà газа из камеры

6 гьгполпег1 зазор В между торцог! камеры 6 и заслонкой 9, 1(амера снабжена иагревателеи 10, 25

Сумиарггая плогцадь попере !ного се-чения отверстий 5 ;., крьппке 4 равна или меньше площагп! поперечного сече-!

И(я ныход»ого отвратил 3 патрубка 1.

Расстояние между о:. -перстнями 5 и 30 между ними и стет!кой камеры 6 не более угрое1!1!Ого диаметра отверстия 5.

11а чертеже стрелками показано направление газовых потоков.

Устройство работае. следугощим об35 разом.

В промежутках между тех. Iaлогичес.кими процессами в камеру 6 вставляют устройство. Через патрубок пода!от поток обесгп,гле!«!о! о газа под избыточ- 40

tttз?2 1 дан 1е»г!еи . 1е р е 3 и атрубок 7 н кг1меру 6 та!<же под lгот сбеспеленный газ.

Стенки камеры 6 нагрев!нот с помощью нагревателя 10„ Поток газа, зыходящ!Гй из отверстий . 1, обдувает стенк« о

45 камеры под углом 35-80 что обеспечивает Jt;ltt te0Jlp.e ."-ффе1;тин»ую очистку стенок к;.мер!! от ггьгггп, образупгщейся в результате рекристаллиэации стенок камеры 6 при проведении технологических процессов. Эмпирически установлено, что расстояние между отверстиями 5 и зазор до стенок камеры

6 должны находиться на уровне не более утроенного диаметра отверстия

5. Далее, медленно выдвигая устройство из камеры 6, продувают ее и очищают таким образом стенки камеры 6 от,пыли. На выходе газового потока через зазор 8 частицы пыли уносятся усиленной вытяжной вентиляцией.

Проведение в камере, обеспыленной с помощью изобретения, процесса получения подзатнорного диэлектрика о днуокиси кремния толщиной 750 Л позволяет снизить пористость окисла г г с 6-8 пор/см до 4-5 пор/см, остаточный уровень кбторого определяется технологическим процессом получения слоя.

Формула изобретения в

Устройство для продувки камеры х«иико-термической обработки полупроводников, Содержащее патрубок для подачи газа, подвижно установленный в камере и снабженньп! отражателем, закрепленньп! перед выходным отверстием патрубка, о т л и ч а го щ е е с я тем, что, с целью повышения эффективности очистки стенок камеры, отражатель снабжен крышкой, размещенной на торце входного отверстия патрубка и имеющей отверстия, выполненные по ее периметру под углом о

35-80 к оси патрубка, причем суммарная площадь поперечного сечения отверстий в крышке ранна или меньше площади поперечного сечения выходного отверстия патрубка, а расстояния между отверстиями крьппки и между ними и стенкой камеры не превышает утроенно о диаметра отверстия.

I 380309

Составитель В. Захаров-Черенков

Техред И. Ходанич

Редактор С.Кулакова

Закаэ 2835

Проиэводственно-полиграфическое предприятие, r.Óæroðáä, ул Проектная, 4

Тираж

ВНИИПИ Государственного комитета СССР по делам иэобретений и открытий

1!3035, Москва, Ж-35, Раушская наб., д. 4/5

Корректор И.Муска

Подписное