Устройство для термообработки полупроводниковых пластин

Устройство для термообработки полупроводниковых пластин

Иллюстрации

Показать все

Реферат

 

Изобретение относится к электронной технике и обеспечивает расширение функциональных возможностей устройства за счет увеличения диапазона давлений в реакцитонной камере и продолжительности процесса. Устройство содержит прозрачную реакционную камеру для обрабатываемой пластины. Снаружи камеры в герметичном корпусе, заполненном прозрачным хладагентом, размещены галогенные лампы и трубки, в которые подают хладагент. В корпусе установлена герметичная емкость из эластичного материала, соединенная с реакционной камерой. 2 ил.

СОЮЗ СОВЕТСКИХ

СОЦИАЛИСТИЧЕСКИХ

РЕСПУБЛИК (51) 5 С 30 В 33/00

ГОСУДАРСТВЕННЫЙ КОМИТЕТ

ПО ИЗОБРЕТЕНИЯМ И ОТКРЫТИЯМ

ПРИ ГКНТ СССР

ОПИСАНИЕ ИЗОБРЕТЕНИЯ

К ПАТЕНТУ (21) 4745695/26 . (22) 16.08;89 (46) 23.07;91. Бюл. 1Ф 27 (75) М. П. Духновский, Г.А. Крысов и Л. M. Кузнецов (53) 621.315.592(088.8) (54) УСТРОЙСТВО ДЛЯ ТЕРМООБРАБОТКИ ПОЛУПРОВОДНИКОВЫХ ПЛАСТИН (57) Изобретение относится к электронной технике и обеспечивает расширение функ- ° циональных возможностей устройства за

Изобретение относится к электронной технике, а именно к технологическим установкам для проведения процессов при нагреве.

Цель изобретения — расширение функциональных возможностей устройства за счет увеличения диапазона давлений в реакционной камере и продолжительности.процесса.

На фиг, 1 показано устройство, общий вид, разрез; на фиг. 2 — сечение А-А на фиг. 1.

Устройство содержит герметичную прозрачную реакционную камеру 1, внутри которой на держателе 2 размещена обрабатываемая полупроводниковая пластина 3. Снаружи реакционной камеры 1 в герметичном корпусе 4 установлены галогенные лампы 5. Корпус 4 охлаждают водой, подаваемой в трубки 6. Корпус 4 имеет патрубок 7 для ввода в его полость дополнительного прозрачного хладагента, например дистиллированной воды, Реакционная камера 1 снабжена патрубками для ввода 8 и вывода 9 газовых реагентов. В

„„Я2 „„1665879 А3 счет увеличения диапазона давлений в реакционной камере и продолжительности процесса. Устройство содержит прозрачную реакционную камеру для обрабатываемой пластины. Снаружи камеры в герметичном корпусе, заполненном прозрачным хладагентом, размещены галогенные лампы и трубки, в которые подают хладагент. В корпусе установлена герметичная емкость из эластичного материала, соединенная с реакционной камерой. 2 ил. корпусе 4 размещена герметичная емкость

10 из эластичного материала, соединенная с объемом реакционной камеры 1 через трубку 11.

Устройство работает следующим образом.

В корпус 4 заливают дистиллированную воду с температурой 18 С, объем которой составляет 3000 см . В корпусе 4 уста новлено 22 галогенные лампы 5 и четыре стальные трубки 6 с общим расходом охлаждающей воды 80 л/мин. Герметичная емкость 10 представляет собой сильфон из полиэтилена и имеет объем 150 см . Ha держатель 2 загружают кремниевую пластину 3; держатель 2 перемещают в реакционную камеру 1 и закрывают ее запорным устройством 12.

Через трубки 6 подают охлаждающую воду, а через атрубок 8 подают смесь газов СО2 и Нг до давления 30 ати. Время процесса составляет 100 с, температура 1200 С. В конце процесса температура дистиллированной воды составляет 48 С. Расширение

3000 см воды при нагреве ее на 30 С са3 ставляет приблизительно 30 см, т. е. мень1бб5879 ше объема герметичной емкости 10, что позволяет скомпенсировать изменение ее объема при нагреве или откачке внутреннего объема. камеры 1. После окончания процесса реакционную камеру 1 продувают воздухом и затем извлекают окисленную кремниевую пластину, толщина окисла составляет 2,5, мкм..

Таким образом, полное заполнение

| пространства между корпусом и реакционной камерой охлаждающей жидкостью по,зволяет подавать в реакционную камеру газ под давлением в несколько десятков атмос фер. При этом предотвращается раерушение реакционной камеры за счет компенсирую,щего воздействия противодавления жидко, сти на ее стенки. В связи с тем, что лампы и реакционная камера погружены в жидкость, создаются условия эффективного охлажде, ния их внешней поверхности. Стенки реакционной камеры практически не негреваются, фоновое подлегирование от сутствует, что позволяет проводить процессы термообработки в течение длительного времени. В качестве охлаждающей прозрачной жидкости используют также органические жидкости, например полифенилметилсилокса5 новый эфир (ПФМС-4).

Формула изобретения

Устройство для термообработки полупроводниковых пластин, содержащее про10 зрачную герметичную реакционную камеру со средствами подачи газов и установленные снаружи в водоохлаждаемом корпусе лампы нагрева, отличающееся тем, что, с целью расширения функциональных

15 возможностей устройства за счет увеличения диапазона давлений в реакционной камере и продолжительности процесса, оно снабжено герметичной емкостью из эластичного материала, соединенной с объе20 мом реакционной камеры и размещенной в корпусе, который выполнен герметичным и имеет патрубок для ввода в полость корпуса дополнительного прозрачного хладагента.

1665879

Техред М.Моргентал

Корректор M. Кучерявая

Редактор О. Хрипта

Производственно-издательский комбинат "Патент", г. Ужгород, ул.Гагарина, 101

Заказ 2403 Тираж 260 Подписное

ВНИИПИ Государственного комитета по изобретениям и открытиям при ГКНТ СССР

113035, Москва, Ж-35, Раушская наб., 4/5