Способ изготовления полупроводниковых диодов

Способ изготовления полупроводниковых диодов

Реферат

Способ изготовления полупроводниковых диодов путем нанесения на подложку определенного типа проводимости слоя диэлектрика, формирования в нем окон, создание области противоположного типа проводимости по отношению к подложке и контактов к ней, отличающийся тем, что, с целью уменьшения размеров p-n перехода и упрощения способа, формирование окон, создание области базы и контактов осуществляют путем электрического пробоя слоя диэлектрика при напряженности поля 10⁵-10⁷ В/см и плотности тока 10⁶-10⁷ А/см².