КРАСНОЖОН А.И.
Изобретатель КРАСНОЖОН А.И. является автором следующих патентов:
Способ ионно-химического травления двуокиси кремния или нитрида кремния
СОЮЗ СОВЕТСКИХ СОЦИАЛИСТИЧЕСКИХ РЕСПУБЛИК (l 9) - (11) (51)5 Н 01 L 21/306 ГОСУДАРСТВЕН-ЮЕ ПАТЕНТНОЕ ВЕДОМСТВО СССР (ГОСПАТЕНТ СССР) ОПИСАНИЕ ИЗОБРЕТЕНИЯ К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ HF+e HF +2е HF + е -Н F++ е - Н + F (21) 2762323/25 (22) 04.05.79 (46) 15.07.93. Бюл. 3Ф 26 (72) С.С.Булгаков, А.P.Êîñîïëåòêèí и А.И.Красножон (56) Технологическая карта 490.734.346 тк изготовл...
774478Лабораторная центрифуга для фильтрации вязких жидкостей
СОЮЗ СОВЕТСКИХ СОЦИАЛИСТИЧЕ CKMX РЕСПУБЛИК (я)ю В 04 В 5/02 ГОСУДАРСТВЕННОЕ ПАТЕНТНОЕ ВЕДОМСТВО СССР (ГОСПАТЕНТ СССР) ОПИСАНИЕ ИЗОБРЕТЕНИ К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ -.1 (21) 2804082/13 (22) 31.07.79 (46) 15.07;93. Бюл. t4 26 (72) А.Р,Косоплеткин, А;И.Красножон и А.Н.Шарапов (56) Патент США N- 3921898, кл. В 04 В 9/14, 1975. (54)(57) 1. ЛАБОРАТОРНАЯ: ЦЕНТРИФУГА ДЛЯ ФИЛЬТР...
813860Способ ионно-химического травления двуокиси и нитрида кремния
(19) (11) СОЮЗ СОВЕТСКИХ СОЦИАЛИСТИЧЕСКИХ РЕСПУБЛИК (s1)s H 01 (21/306 ГОСУДАРСТВЕННОЕ ПАТЕНТНОЕ ВЕДОМСТВО СССР (ГОСПАТЕНТ СССР) ОПИСАНИЕ ИЗОБРЕТЕН К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ (21) 2929863/25 (22) 26,05.80 (46) 15.07.93. Бюл. М 26 (72) А.И.Красножон (54К57) СПОСОБ ИОННО-ХИМИЧЕСКОГО ТРАВЛЕНИЯ ДВУОКИСИ И НИТРИДА КРЕМНИЯ в потоке фторсодержащих Изобретение относится к техноло...
867233Способ изготовления кремниевых структур с диэлектрической изоляцией
1. СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ КРЕМНИЕВЫХ СТРУКТУР С ДИЭЛЕКТРИЧЕСКОЙ ИЗОЛЯЦИЕЙ (КСДИ), включающий нанесение окисного слоя на полупроводниковую подложку, фотолитографию, выращивание тонкого термического окисла ..7Е/;---,,я, Hb/iHGT EiiA кремния, воздушную закалку, нанесение слоя золота и диффузию его в кремний, высокотемпературный отжиг в инертной среде , отличающийся тем, что, с целью ув...
897058Способ изготовления быстродействующих транзисторных структур
СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ БЫСТРОДЕЙСТВУЮЩИХ ТРАНЗИСТОРНЫХ СТРУКТУР, включающий операции формирования на полупроводниковой подложке маскирующего диэлектрического покрытия, вскрытия окон в нем, формирования базовой области с маскирующим диэлектрическим покрытием, вскрытия окон в последнем покрытием, вскрытия окон в последнем покрытии, формирования эмиттерной области с диэлектрическим пок...
950113Способ изготовления биполярных транзисторов
СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ БИПОЛЯРНЫХ ТРАНЗИСТОРОВ, Езключающий окисяение полупроводниковой подложки, фотогравировку зоны охранного кольца по периферии базы транзистора, диф фузию для со.чдания дополнительной области глубокозалегающего охранного кольца одинакового типа проводимости с базовой областью, удаление легированного окисла и создание нового «гша.ЙГ;,,/ 1SS1S 1 слоя маскирую1цего...
1010994Способ изготовления мощных кремниевых @ -р- @ транзисторов
СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ МОУЩЫХ КРЕМНИЕВЫХ п-р-п ТРАНЗИСТОРОВ, включающий операции внедрения базовой контактной примеси в кремниевую пол ложку п-типа проводимости через маскирую1цее покрьп ие, создания в маскирующем подкрытии окна под диффузию базовой и эмиттерной примесей, дифОупионного легирования для получения активной базовой и соемещзнной с ней змиттерной области, вскрытия контак...
1018543Способ ионно-химического травления кремнийсодержащих диэлектрических пленок на кремниевых подложках
(5i)-, H 01 Т, 21/306 СОЮЗ СОВЕТСКИХ СОЦИАЛ И СТИЧ ЕСКИХ РЕСПУбЛИК ГОСУДАРСТВЕННОЕ ПАТЕНТНОЕ ВЕДОМСТВО СССР (ГО СПАТЕ НТ СССР) (21) 3366057/25 (22) 09. 11.ц1 (Аб) 15.07.93. Бюл. l" 26 (72) Н,П.Бутырин, B.H.Ликарев и А.И.Красножон (56) Авторское свидетельство СССР И 749293, кл. Н 01 1. 21/306, опубл. 1978, (54)(57) СПОСОБ ИОННО-ХИИИЧЕСКОГО ТРАВЛЕНИЯ КРЕМН1!ИСОЛЕРИАР,ИХ ЛИЭ...
1040980Способ получения кристаллов полупроводниковых структур
СОЮЗ СОВЕТСКИХ СОЦИАЛ И СТИЧ ЕСКИХ РЕСПУБЛИК (я)л H 01 т. 21/78 ОПИСАНИЕ ИЗОБРЕТЕНИЯ Н АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ ГОСУДАРСТВЕННОЕ ПАТЕНТНОЕ ВЕДОМСТВО СССР (ГОСПАТЕНТ СССР) (21) 3361943/25 (22) 04. 12.81 . (46) 15.07,93. Бюл. Л". 26 (72) В.Н.Глущенко и А..И.Красножон (54)(57) 1. СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ КРИСТАПЛОВ ПОЛУПРОВОДНИКОВЫХ СТРУКТУР, включающий операции формирования элементов...
1050475Способ контроля многопороговых мдп бис
СПОСОБ КОНТРОЛЯ МНОГОПОРОГОВЫХ МДП БИС, включающий подачу напряжения на стоки и затворы двух транзисторов тестовой ячейки, последующее изменение напряжения на затворах транзисторов и определение их токов стока, отличаю и; ийся тем, что, с целью повышения точности , на затворы обоих транзисторов подают одинаковое напряжение и одновременно изменяют его до момента равенства токов ст...
1132686Способ изготовления вч-транзисторных структур
СОЮЗ СОВЕТСКИХ СОЦИАЛИСТИЧЕСКИХ РЕСПУБЛИК (s() s Н 01 L 21/265 ОПИСАНИЕ ИЗОБРЕТЕНИЯ К ABTOPCHOMV СВИДЕТЕЛЬСТВУ (щ (ф iQ) 1ы Q() ГОСУДАРСТВЕННОЕ ПАТЕНТНОЕ ВЕДОМСТВО СССР (ГОСПАТЕНТ СССР) (21) 3662377/25 (22) 16.11.83 (46) 15.07.93- Бюл, (1 26 (72) В.В.Котов, А,И.Красножон и А,В.Недведков (56) Патент Японии (52-1 9759, кл. H 01 L 21/31, опублик, 1977, Патент Японии !(53 16...
1145838Кассета для обработки и транспортировки полупроводниковых подложек
1 о КАССЕТА ЛЛЯ ОБРАБОТКИ И ТРАНСПОРТИРОВКИ ПОЛУПРОВОДНИКОВЫХ ПОДЛОЖЕК, содержащая размещенные меж,пу стойками полложкодержатели в виде установленных, параллельно на разных уровнях стерн(ней с поперечными пазами, два из которых выполнены полыми и снабжены размещенными внутри них подпружиненными штоками с поперечными пазами и механизмом их перемещения , отличающаяся тем, что, с це...
1190871Способ изготовления мдп больших интегральных схем
Изобретение относится к области микроэлектроники и может быть использовано при создании больших интегральных схем на ВДП-транзисторах. Цель изобретения - повышение быстродействия МДП больших интегральных схем и степени их интеграции. В способе изготовления МДП больших ральных схем создают подзатворный диэлектрик на кг емниевой подложке. Далее наносят поликремниевую разводку и уда...
1295971