Способ формирования межуровневой изоляции интегральных схем из борофосфоросиликатного стекла

Способ формирования межуровневой изоляции интегральных схем из борофосфоросиликатного стекла

Реферат

Способ формирования межуровневой изоляции интегральных микросхем из борофосфоросиликатного стекла, включающий загрузку кремниевых подложек со структурами интегральных схем в реактор, нагретый до 600-700°С, вакуумирование реактора, раздельную подачу в реактор паров тетраэтоксисилана с азотом или кислородом посредством испарителя-барботера при 30-60°С, фосфина с парами триметилбората в инертном газе и кислорода, наращивание пленки борофосфоросиликатного стекла требуемой толщины с содержанием фосфора 2-5 мас.% и бора 3-6 мас.% при давлении 15-100 Па и соотношении ингредиентов фосфин-кислород более или равном 0,2 при температуре нагрева реактора, оплавление борофосфоросиликатного стекла, отличающийся тем, что, с целью повышения качества межуровневой изоляции путем снижения дефектности и повышения стабильности стекла во времени, после наращивания пленки борофосфоросиликатного стекла требуемой толщины прекращают подачу паров триметилбората в инертном газе и осаждают защитный слой толщиной 0,02-0,1 мкм без изменения температуры реактора и давления, а перед оплавлением удаляют защитный слой селективно к пленке борофосфоросиликатного стекла.