Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт физики полупроводников им. А.В. Ржанова Сибирского отделения Российской академии наук (ИФП СО РАН) (RU)
Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт физики полупроводников им. А.В. Ржанова Сибирского отделения Российской академии наук (ИФП СО РАН) (RU) является правообладателем следующих патентов:
![Способ изготовления структуры кремний-на-изоляторе Способ изготовления структуры кремний-на-изоляторе](https://img.patentdb.ru/i/200x200/d8afe61b4d42e3f2307b978d4a4078f6.jpg)
Способ изготовления структуры кремний-на-изоляторе
Изобретение относится к полупроводниковой технологии и может быть использовано для изготовления приборных структур. В способе изготовления структуры кремний-на-изоляторе в аморфный изолирующий слой SiO2 подложки кремния осуществляют имплантацию ионов легко диффундирующей примеси, удаляющей нерегулярные связи и насыщающей оборванные связи в слое SiO2 и/или на границе раздела между слоем SiO2 и по...
2497231![Способ изготовления структуры полупроводник-на-изоляторе Способ изготовления структуры полупроводник-на-изоляторе](https://img.patentdb.ru/i/200x200/be16c9f02947aa187e7ea24568e59041.jpg)
Способ изготовления структуры полупроводник-на-изоляторе
Изобретение относится к полупроводниковой технологии. В аморфный изолирующий слой SiO2 подложки Si осуществляют имплантацию ионов легко сегрегирующей примеси, способной формировать нанокристаллы в объеме слоя SiO2-Si+ или Ge+. Получают область локализации имплантированной примеси. Режимы имплантации обеспечивают концентрацию внедряемой примеси, достаточную для формирования нанокристаллов не мене...
2498450![Устройство считывания с временной задержкой и накоплением сигналов с многоэлементных фотоприемников инфракрасного излучения Устройство считывания с временной задержкой и накоплением сигналов с многоэлементных фотоприемников инфракрасного излучения](https://img.patentdb.ru/i/200x200/e89976343f5090eaf25128fd8ffc8570.jpg)
Устройство считывания с временной задержкой и накоплением сигналов с многоэлементных фотоприемников инфракрасного излучения
Устройство считывания с временной задержкой и накоплением сигналов с многоэлементных фотоприемников инфракрасного излучения относится к области интегральной микроэлектроники и предназначено для систем обработки оптической информации. Устройство содержит m каналов считывания. Каждый канал считывания выполнен из блока считывания с n ячейками считывания, блока каскадов ВЗН сигналов с n каскадами ВЗ...
2498456![Способ измерения диффузионной длины неосновных носителей заряда в полупроводниках и тестовая структура для его осуществления Способ измерения диффузионной длины неосновных носителей заряда в полупроводниках и тестовая структура для его осуществления](https://img.patentdb.ru/i/200x200/f116696e586ad6bc47f756e12f15669f.jpg)
Способ измерения диффузионной длины неосновных носителей заряда в полупроводниках и тестовая структура для его осуществления
Изобретение относится к области полупроводниковой фотоэлектроники - инфракрасным (ИК) фотодетекторам - и может быть использовано для контроля технологического процесса и материала. Способ измерения диффузионной длины неосновных носителей заряда в полупроводниках заключается в том, что в тестовой структуре, выполненной на общем базовом слое, на поверхности p-n или n-p переходов фотодиодов изготав...
2501116![Способ формирования граней чипа для мозаичных фотоприемных модулей Способ формирования граней чипа для мозаичных фотоприемных модулей](https://img.patentdb.ru/i/200x200/3aec679c97cf6ffd4cb5205c7b71401e.jpg)
Способ формирования граней чипа для мозаичных фотоприемных модулей
Изобретение относится к полупроводниковой технологии и предназначено для сборки мозаичных фотоприемных модулей. В способе формирования граней чипа для мозаичных фотоприемных модулей наносят защитное покрытие на планарную сторону приборной пластины, после чего, используя лазер, производят скрайбирование и осуществляют раскалывание приборной пластины. Защитное покрытие наносят толщиной, обеспечива...
2509391![Способ получения слоя фторографена Способ получения слоя фторографена](https://img.patentdb.ru/i/200x200/2af3c755f6abbf049493dbe877c2a861.jpg)
Способ получения слоя фторографена
Изобретение относится к нанотехнологии и предназначено для использования при создании современных тонкопленочных полупроводниковых приборов и структур наноэлектроники. В способе получения слоя фторографена от объемного графита отделяют слой требуемой толщины и размещают его на подложке. Затем проводят операцию фторирования с использованием плавиковой кислоты при условиях, обеспечивающих получени...
2511613![Датчик магнитного поля и способ его изготовления Датчик магнитного поля и способ его изготовления](https://img.patentdb.ru/i/200x200/b9217a40fb3aebb06734627b46eb31c2.jpg)
Датчик магнитного поля и способ его изготовления
Изобретение может быть использовано для создания миниатюрных датчиков для трехосевой магнитометрии. Датчик магнитного поля содержит сенсорные узлы, реализованные на использовании эффекта Холла, которые выполнены в составе криволинейной оболочки с системой слоев. В системе слоев присутствуют восприимчивые к магнитному полю - функциональные и формообразующие. Последними обеспечена кривизна оболочк...
2513655![Канальная матрица и способ ее изготовления Канальная матрица и способ ее изготовления](/img/empty.gif)
Канальная матрица и способ ее изготовления
Изобретение предназначено для использования в мембранных нанотехнологиях для производства управляемых микро- и нанофлюидных фильтров, биосенсорных устройств, приборов медицинской диагностики. Сущность изобретения: в канальной матрице помимо пластины монокристаллического кремния дырочного типа с вскрытыми каналами и осажденного материала на фронтальной поверхности этой пластины создан промежуточн...
2516612![Резистивный флэш элемент памяти Резистивный флэш элемент памяти](/img/empty.gif)
Резистивный флэш элемент памяти
Изобретение относится к вычислительной технике. Технический результат заключается в достижении воспроизводимости окна гистерезиса резистивного элемента памяти. Резистивный флэш элемент памяти содержит полупроводниковую подложку с выполненным на ее рабочей поверхности проводящим электродом, на котором расположен слой диэлектрика, на слое диэлектрика выполнен второй проводящий электрод, причем про...
2516771![Способ получения структурированной поверхности полупроводников Способ получения структурированной поверхности полупроводников](https://img.patentdb.ru/i/200x200/7253339e78e8ed128c09e49a1926579c.jpg)
Способ получения структурированной поверхности полупроводников
Изобретение относится к области полупроводниковой технологии и может быть использовано при изготовлении наноструктур. Способ получения структурированной поверхности полупроводников, заключающийся в том, что на поверхности полупроводниковой пластины выращивают защитный слой, на который наносят маску со вскрытыми окнами заданного размера, затем проводят облучение поверхности полупроводниковой плас...
2519865![Сдвиговый регистр Сдвиговый регистр](https://img.patentdb.ru/i/200x200/fc232c4dd8be4bf4b9d9f398143c18db.jpg)
Сдвиговый регистр
Изобретение относится к вычислительной технике. Технический результат заключается в обеспечении реверсивности сдвига информации внутри сдвигового регистра. Сдвиговый регистр содержит ячейки, каждая из которых состоит из трех n-МОП транзисторов, двух емкостей, двух шин тактового питания, шины нулевого потенциала и их связей, причем в каждую ячейку дополнительно введены третья шина тактового питан...
2522306![Сдвиговый регистр Сдвиговый регистр](https://img.patentdb.ru/i/200x200/8926a98b8c9c9132c968479d25cbe185.jpg)
Сдвиговый регистр
Изобретение относится к оптоэлектронике и микроэлектронике и может быть использовано для построения сдвиговых регистров в фотоприемных субмодулях для мозаичных фотоприемников, в частности, в фотоприемниках на микроболометрах. Техническим результатом является обеспечение возможности двунаправленной передачи информации и минимизация занимаемой площади кристалла БИС. Устройство содержит ячейки, каж...
2527188![Плазменный коммутатор Плазменный коммутатор](https://img.patentdb.ru/i/200x200/80fe8c3f22fe0a0a5cd81ab460699057.jpg)
Плазменный коммутатор
Плазменный коммутатор относится к электронной технике и может быть, в частности, использован при создании импульсных генераторов, источников питания импульсных устройств, импульсных лазеров. Плазменный коммутатор содержит герметизируемую камеру, заполненную рабочим газом, с катодом и сетчатым анодом. Сетчатый анод выполнен с поверхностью, эквидистантной внутренней поверхности катода, а катод - в...
2528015![Устройство считывания для многоэлементных фотоприемников инфракрасного излучения Устройство считывания для многоэлементных фотоприемников инфракрасного излучения](/img/empty.gif)
Устройство считывания для многоэлементных фотоприемников инфракрасного излучения
Изобретение относится к области интегральной микроэлектроники и предназначено для обработки оптической информации. Техническим результатом является повышение точности определения дальности до объектов в одном кадре одновременно с получением тепловизионного изображения. Устройство содержит многоканальную систему считывания с каналами считывания тепловизионного сигнала и измерения дальности до объ...
2529768![Сдвиговый регистр (варианты) Сдвиговый регистр (варианты)](https://img.patentdb.ru/i/200x200/24814606adb7aabfe9a882981d9f4917.jpg)
Сдвиговый регистр (варианты)
Группа изобретений относится к оптоэлектронике и микроэлектронике и может быть использована для построения сдвиговых регистров в фотоприемных субмодулях для мозаичных фотоприемников, в частности, в фотоприемниках на микроболометрах. Техническим результатом является обеспечение двунаправленной передачи информации сдвигового регистра, повышение стабильности работы в условиях существенных паразитны...
2530271![Способ измерения для контроля водорода в твердотельном материале Способ измерения для контроля водорода в твердотельном материале](https://img.patentdb.ru/i/200x200/2f4fe05bd021f36f7ab59f16be16945f.jpg)
Способ измерения для контроля водорода в твердотельном материале
Изобретение относится к области исследования материалов с помощью оптических средств, а также к технологии изготовления полупроводниковых приборов - для контроля водорода в материале при создании приборов и структур. В отношении образца с тестируемым материалом регистрируют спектр комбинационного рассеяния света в геометрии обратного рассеяния. Измерения проводят в диапазоне частот колебаний свя...
2531081![Способ получения приборных графеновых структур Способ получения приборных графеновых структур](https://img.patentdb.ru/i/200x200/e1a7e6fb7495aad602cbf5120825d067.jpg)
Способ получения приборных графеновых структур
Использование: для разработки наноразмерных приборов на основе гетероструктур с использованием слоев графена и мультиграфена. Сущность изобретения заключается в том, что выращивают на подложке-доноре слой графена, который затем покрывают вспомогательной для переноса графенового слоя пленкой. После этого на вспомогательной для переноса графенового слоя пленке создают натягивающую рамку, предотвра...
2538040![Способ изготовления структуры кремний-на-сапфире Способ изготовления структуры кремний-на-сапфире](https://img.patentdb.ru/i/200x200/26bc9a0ff0ca0740e2f0a720edbde7af.jpg)
Способ изготовления структуры кремний-на-сапфире
Изобретение относится к полупроводниковой технологии и может быть использовано для изготовления приборных структур. В подложку из кремния проводят имплантацию ионов с формированием слоя, предназначенного для переноса. Осуществляют активирующую обработку поверхности, по которой проводят сращивание. Подложки кремния и сапфира соединяют в пары поверхностями, предназначенными для сращивания. Предвар...
2538352![Способ изготовления ступенчатого высотного калибровочного стандарта для профилометрии и сканирующей зондовой микроскопии Способ изготовления ступенчатого высотного калибровочного стандарта для профилометрии и сканирующей зондовой микроскопии](/img/empty.gif)
Способ изготовления ступенчатого высотного калибровочного стандарта для профилометрии и сканирующей зондовой микроскопии
Предложенный способ относится к изготовлению инструмента измерительной техники для исследований профилей топографических особенностей гладкой поверхности - ступенчатого высотного калибровочного стандарта для профилометрии и сканирующей зондовой микроскопии. Согласно заявленному способу, подготавливают полупроводниковую пластину с вицинальной поверхностью, характеризуемой наличием верхней и нижне...
2540000![Двухкаскадный динамический сдвиговый регистр Двухкаскадный динамический сдвиговый регистр](https://img.patentdb.ru/i/200x200/b55e3a3cb0c2b70e6c8ee818540f67e6.jpg)
Двухкаскадный динамический сдвиговый регистр
Изобретение относится к оптоэлектронике и микроэлектронике и может быть использовано для построения сдвиговых регистров в фотоприемных субмодулях для мозаичных фотоприемников. Техническим результатом является расширение функциональных возможностей за счет обеспечения реверсивности сдвига информации внутри сдвигового регистра, минимизация занимаемой площади кристалла ИС, расширение области примен...
2542898![Динамический регистр сдвига Динамический регистр сдвига](https://img.patentdb.ru/i/200x200/606cae6c7bb938539bd02a8514f8d250.jpg)
Динамический регистр сдвига
Изобретение относится к оптоэлектронике и микроэлектронике и может быть использовано для построения сдвиговых регистров в фотоприемных субмодулях для мозаичных фотоприемников, в частности в фотоприемниках на микроболометрах. Техническим результатом является обеспечение реверсивности сдвига информации внутри динамического регистра сдвига, минимизация занимаемой площади кристалла ИС, обеспечение в...
2542913![Флэш элемент памяти Флэш элемент памяти](/img/empty.gif)
Флэш элемент памяти
Изобретение относится к вычислительной технике. Технический результат заключается в снижении паразитной емкости между плавающими затворами соседних флэш элементов памяти и предотвращении стирания информации соседних флэш элементов памяти. Флэш элемент памяти содержит полупроводниковую подложку с истоком и стоком, сформированными в ней, и последовательно выполненные на подложке между истоком и ст...
2546201![Двухтактный сдвигающий регистр Двухтактный сдвигающий регистр](https://img.patentdb.ru/i/200x200/8f5ccd0bd1ec997e5490bc8e1fd62eda.jpg)
Двухтактный сдвигающий регистр
Изобретение относится к оптоэлектронике и микроэлектронике и может быть использовано для построения двухтактных сдвигающих регистров в фотоприемных субмодулях для мозаичных фотоприемников, в частности в фотоприемниках на микроболометрах. Технический результат заключается в обеспечении возможности реверсивного сдвига информации внутри двухтактного сдвигающего резистра и возможности двунаправленно...
2549136![Светодиод и способ его изготовления Светодиод и способ его изготовления](/img/empty.gif)
Светодиод и способ его изготовления
Светодиод содержит подложку, светоизлучающую структуру, первый электрод, второй электрод. На подложке выполнен электропроводящий, прозрачный для излучаемого света U-образный подвес для светоизлучающей структуры. Подвес лежит на подложке одной ветвью и жестко связан с ней. Между ветвями в направлении от подложки выполнена жестко связанная с ветвями последовательность элементов. Элементы - изолиру...
2553828![Ячейка устройства считывания фотоприемных матриц с аналого-цифровым преобразованием Ячейка устройства считывания фотоприемных матриц с аналого-цифровым преобразованием](https://img.patentdb.ru/i/200x200/0232eb38ea370cbf4f6a2712fda071b7.jpg)
Ячейка устройства считывания фотоприемных матриц с аналого-цифровым преобразованием
Изобретение относится к области интегральной микроэлектроники и предназначено для систем приема и обработки оптической информации. Ячейка устройства считывания фотоприемных матриц с аналого-цифровым преобразованием содержит входной узел, интегрирующую емкость с одной из обкладок, закороченной на землю, счетчик, триггер Шмитта, сдвиговый регистр. Счетчик реализован с отсутствием сброса, m-разряд...
2554646![Двухтактный динамический регистр сдвига Двухтактный динамический регистр сдвига](https://img.patentdb.ru/i/200x200/ab1051478f42cfacf6c48c3160424f8f.jpg)
Двухтактный динамический регистр сдвига
Изобретение относится к оптоэлектронике и микроэлектронике и может быть использовано для построения двухтактных динамических регистров сдвига в фотоприемных субмодулях для мозаичных фотоприемников, в частности в фотоприемниках на микроболометрах. Техническим результатом изобретения является: расширение функциональных возможностей за счет обеспечения реверсивности сдвига информации внутри двухтак...
2556437![Биорезорбируемая полимерная клеточная матрица Биорезорбируемая полимерная клеточная матрица](https://img.patentdb.ru/i/200x200/d0174418e27e8e4c5ef3e8785c732724.jpg)
Биорезорбируемая полимерная клеточная матрица
Изобретение относится к медицине и представляет собой биорезорбируемую полимерную клеточную матрицу для тканеинженерии. Матрица содержит каркас-носитель для клеточных культур и биологических агентов. Каркас выполнен собираемым из N ориентированных друг относительно друга двумерных матриц с N≥1 с возможностью их фиксации в стопку после заселения клетками для тканевой инженерии. Каждая из двумерны...
2563621![Способ сборки мозаичного фотоприемного модуля большого формата из фотоприемных модулей меньшей площади Способ сборки мозаичного фотоприемного модуля большого формата из фотоприемных модулей меньшей площади](https://img.patentdb.ru/i/200x200/6e98d95d880f780ee086f6e64303928a.jpg)
Способ сборки мозаичного фотоприемного модуля большого формата из фотоприемных модулей меньшей площади
Изобретение относится к технологии изготовления полупроводниковых приборов - мозаичных фотоприемных модулей большого формата из фотоприемных модулей меньшей площади. При сборке фотоприемные модули меньшей площади разбивают на группы. Располагают фотоприемные модули каждой группы в ряд, формируя параллельные ряды. Фотоприемные модули меньшей площади со схемой считывания, выполненной из одного мат...
2571452![Соединительный пресс для матриц большого формата Соединительный пресс для матриц большого формата](https://img.patentdb.ru/i/200x200/267a03c60a3b8a49ba9cb3ba45bdedcb.jpg)
Соединительный пресс для матриц большого формата
Изобретение относится к области микроэлектронной техники и может быть использовано при разработке технологического оборудования для изготовления гибридных микросхем большого формата, упрощения и удешевления такого оборудования. Заявленный соединительный пресс для матриц большого формата состоит из основания на котором помещена нижняя платформа для расположения на ней матриц большого формата, вер...
2586088![Способ изготовления киральной структуры Способ изготовления киральной структуры](https://img.patentdb.ru/i/200x200/51065a1fd517f889d20bebf5191aa209.jpg)
Способ изготовления киральной структуры
Использование: для создания новых перестраиваемых искусственных электромагнитных сред на основе тонкопленочных металл-полупроводниковых и металлических оболочек. Сущность изобретения заключается в том, что способ изготовления киральной электромагнитной структуры включает изготовление N киральных элементов с N≥1, изготавливают целиком формообразующую подложку с рельефом на ее рабочей поверхности,...
2586454![Способ консервации твердотельной поверхности и консервирующее твердотельную поверхность покрытие Способ консервации твердотельной поверхности и консервирующее твердотельную поверхность покрытие](https://img.patentdb.ru/i/200x200/c505ee40f49af387c03fce2605e8c751.jpg)
Способ консервации твердотельной поверхности и консервирующее твердотельную поверхность покрытие
Изобретение относится к технологии изготовления приборов микро- и наноэлектроники. Предложен способ консервации твердотельной поверхности, включающий последовательно осуществляемые стадию предварительной подготовки поверхности к консервации и стадию нанесения консервирующего покрытия. Первую стадию осуществляют неповреждающей очисткой твердотельной поверхности, приводящей к формированию на повер...
2601745![Кремниевый мультиплексор Кремниевый мультиплексор](https://img.patentdb.ru/i/200x200/41fc62f07b7cb154544fb3313c808bf5.jpg)
Кремниевый мультиплексор
Изобретение относится к оптоэлектронике и микроэлектронике и может быть использовано для считывания электрических сигналов в фотоприемных субмодулях для мозаичных фотоприемников, в частности в фотоприемниках на микроболометрах. Технический результат заключается в обеспечении возможности считывания не только в рамках полного кадра, но и фрагментами из полной матрицы ячеек считывания с заданными п...
2602373![Мемристорный элемент памяти Мемристорный элемент памяти](/img/empty.gif)
Мемристорный элемент памяти
Изобретение относится к микроэлектронике. Мемристорный элемент памяти содержит подложку с расположенным на ее рабочей поверхности проводящим электродом. На указанном проводящем электроде выполнен активный слой из диэлектрика. Второй проводящий электрод расположен на активном слое. Проводящий электрод, расположенный на рабочей поверхности, и/или второй проводящий электрод выполнены из металла. В...
2602765![Способ изготовления активного слоя для резистивной памяти Способ изготовления активного слоя для резистивной памяти](https://img.patentdb.ru/i/200x200/1debc1655621c792f3e0e5ecebc0f374.jpg)
Способ изготовления активного слоя для резистивной памяти
Изобретение может быть использовано при изготовлении элементов памяти для вычислительных машин, микропроцессоров, электронных паспортов и карточек. Измельчают природный очищенный графит, в полученный порошок интеркалируют растворитель, не приводящий к химическому окислению графита, но способствующий расслоению графита, например диметилформамид или N-метилпирролидон. Для расслоения частиц графита...
2603160![Пироэлектрический детектор миллиметрового излучения (варианты) Пироэлектрический детектор миллиметрового излучения (варианты)](/img/empty.gif)
Пироэлектрический детектор миллиметрового излучения (варианты)
Изобретение относится к технике измерений, в частности к измерению интенсивности электромагнитного излучения с пространственным и поляризационным разрешением. Пироэлектрический детектор миллиметрового излучения выполнен на основе пироэлектрической пленки с системой считывания сигнала, в котором на поверхности пироэлектрической пленки размещен ультратонкий резонансный поглотитель, состоящий из диэл...
2606516![Способ изготовления активного слоя для универсальной памяти на основе резистивного эффекта Способ изготовления активного слоя для универсальной памяти на основе резистивного эффекта](https://img.patentdb.ru/i/200x200/0ff9660b9a97d7c6c6aa11efa479c976.jpg)
Способ изготовления активного слоя для универсальной памяти на основе резистивного эффекта
Способ относится к вычислительной технике - к электрически перепрограммируемым постоянным запоминающим устройствам, сохраняющим информацию при отключенном питании. Способ изготовления активного слоя для универсальной памяти на основе резистивного эффекта включает осаждение на подложку слоя диэлектрика - окиси гафния. При осаждении получают окись гафния нестехиометрического состава - HfOx, содержащ...
2611580![Способ изготовления мдп-структур на основе inas Способ изготовления мдп-структур на основе inas](https://img.patentdb.ru/i/200x200/f44506f42a47e392da0f38f03478d73c.jpg)
Способ изготовления мдп-структур на основе inas
Изобретение относится к технологии изготовления полупроводниковых приборов и может быть использовано при их изготовлении на основе МДП-структур на InAs. Подложку InAs подвергают предварительной обработке, включающей очистку поверхности ее от загрязнений и естественного окисла. После чего на подложке в вакуумной камере проводят формирование диэлектрического слоя посредством анодного окисления подло...
2611690![Способ подготовки поверхности insb подложки для выращивания гетероструктуры молекулярно-лучевой эпитаксией Способ подготовки поверхности insb подложки для выращивания гетероструктуры молекулярно-лучевой эпитаксией](/img/empty.gif)
Способ подготовки поверхности insb подложки для выращивания гетероструктуры молекулярно-лучевой эпитаксией
Изобретение относится к технологии изготовления полупроводниковых приборов - для изготовления фокальных диодных фотоприемных матриц на подложках InSb. В способе подготовки поверхности InSb подложки для выращивания гетероструктуры молекулярно-лучевой эпитаксией сначала проводят предварительную обработку поверхности подложки InSb с модификацией состава окисного слоя для обеспечения в дальнейшем полн...
2613487![Устройство для усиления сигнала от ячейки матричного фотоприёмника Устройство для усиления сигнала от ячейки матричного фотоприёмника](https://img.patentdb.ru/i/200x200/3864220a5c864c771c6705f65353493e.jpg)
Устройство для усиления сигнала от ячейки матричного фотоприёмника
Изобретение относится к области полупроводниковой, органической и гибридной оптоэлектроники и может быть использовано в системах обработки оптической информации. Техническим результатом изобретения является реализация возможности монолитного изготовления линеек и матриц органических фотоприемников в варианте с активным усилением малого заряда и тока фотопроводимости, что позволит усилить сигнал от...
2616222![Способ изготовления суспензии для 2d печати диэлектрических слоев на основе фторографена Способ изготовления суспензии для 2d печати диэлектрических слоев на основе фторографена](https://img.patentdb.ru/i/200x200/3813c4c517788e6da789215e1599f5fc.jpg)
Способ изготовления суспензии для 2d печати диэлектрических слоев на основе фторографена
Изобретение может быть использовано в электронике при получении прозрачных электродов, дисплеев, беспроводных электронных устройств, элементов памяти, микропроцессоров, электронных паспортов, карточек, сенсоров, биосовместимых электронных имплантов. Сначала подготавливают суспензию графена с его концентрацией 0,01-10 мг/мл. Полученную суспензию графена фторируют при температуре 60-80 °С в растворе...
2620123![Микроконтакт для фотоприемной гибридной микросхемы Микроконтакт для фотоприемной гибридной микросхемы](https://img.patentdb.ru/i/200x200/21633f3cd20c609c4b6a6d8a21b34aaa.jpg)
Микроконтакт для фотоприемной гибридной микросхемы
Изобретение относится к области полупроводниковой микроэлектроники и может быть использовано при разработке и изготовлении фотоприемных устройств, выполненных в виде гибридных микросхем. Микроконтакт для фотоприемной гибридной микросхемы содержит две металлические контактные площадки и между ними контактный элемент с заданной площадью S0 поперечного сечения. Контактный элемент выполнен из множеств...
2621889![Способ формирования биорезорбируемой полимерной клеточной матрицы для регенерации ткани Способ формирования биорезорбируемой полимерной клеточной матрицы для регенерации ткани](https://img.patentdb.ru/i/200x200/24a69ee404998881d0041900a763067b.jpg)
Способ формирования биорезорбируемой полимерной клеточной матрицы для регенерации ткани
Изобретение относится к области фармацевтики и представляет собой способ формирования биорезорбируемой полимерной клеточной матрицы для регенерации ткани, заключающийся в том, что изготавливают литографией комплект двумерных матриц в виде пленки полимера с поверхностными массивами микро- и нанообъектов, которые для каждой двумерной матрицы выполняют с индивидуальной архитектурой, системностью и вз...
2622009![Спин-детектор свободных электронов на основе полупроводниковых гетероструктур Спин-детектор свободных электронов на основе полупроводниковых гетероструктур](https://img.patentdb.ru/i/200x200/262489920fd621a4944e007469f1a752.jpg)
Спин-детектор свободных электронов на основе полупроводниковых гетероструктур
Использование: для поляризованных светодиодов и спин-транзисторов. Сущность изобретения заключается в том, что спин-детектор содержит подложку, на которой последовательно выполнены: барьерный слой, первый слой из GaAs или из AlxGa1-xAs, второй слой с квантовыми ямами из InxGa1-xAs или из GaAs, третий слой из GaAs или из AlxGa1-xAs, третий слой с квантовыми ямами из InxGa1-xAs или из GaAs, четверты...
2625538![Способ подготовки поверхности insb подложки для выращивания гетероструктуры методом молекулярно-лучевой эпитаксии Способ подготовки поверхности insb подложки для выращивания гетероструктуры методом молекулярно-лучевой эпитаксии](/img/empty.gif)
Способ подготовки поверхности insb подложки для выращивания гетероструктуры методом молекулярно-лучевой эпитаксии
Способ относится к технологии изготовления полупроводниковых приборов методом молекулярно-лучевой эпитаксии. В способе подготовки поверхности InSb подложки для выращивания гетероструктуры молекулярно-лучевой эпитаксией проводят предварительную обработку поверхности подложки InSb с модификацией состава остаточного оксидного слоя. Модификацию состава остаточного оксидного слоя на поверхности подложк...
2642879![Устройство считывания для многоэлементных фотоприемников инфракрасного излучения Устройство считывания для многоэлементных фотоприемников инфракрасного излучения](https://img.patentdb.ru/i/200x200/1e8afbd18ba5791163d1a8dcdc3f7cb6.jpg)
Устройство считывания для многоэлементных фотоприемников инфракрасного излучения
Устройство относится к области интегральной микроэлектроники, предназначено для обработки оптической информации. Устройство характеризуется многоканальной системой считывания в составе матрицы ячеек считывания. Ячейка считывания содержит емкостной трансимпедансный усилитель с интегрирующей емкостью, фильтр высокой частоты, компаратор, преобразователь времени в напряжение, логический блок, N-разряд...
2645428![Способ изготовления ступенчатого высотного калибровочного эталона и ступенчатый высотный калибровочный эталон Способ изготовления ступенчатого высотного калибровочного эталона и ступенчатый высотный калибровочный эталон](https://img.patentdb.ru/i/200x200/5f4e582cead4bb57a8fac7b0902c679a.jpg)
Способ изготовления ступенчатого высотного калибровочного эталона и ступенчатый высотный калибровочный эталон
Использование: для измерения высоты ступенчатых особенностей на гладких поверхностях. Сущность изобретения заключается в том, что способ включает проведение в вакууме термоэлектрического отжига подложки твердотельного материала пропусканием электрического тока с резистивным нагревом до температуры активируемой сублимации атомов, отжиг сочетают с подачей потока осаждаемого на поверхность материала...
2649058![Гетероэпитаксиальная структура для полевых транзисторов Гетероэпитаксиальная структура для полевых транзисторов](https://img.patentdb.ru/i/200x200/f00e9596c7a45c870bfd1bc708beaa8e.jpg)
Гетероэпитаксиальная структура для полевых транзисторов
Гетероэпитаксиальная структура относится к полупроводниковым приборам. На подложке выполнены слои, в составе которых сформирован канальный слой узкозонного полупроводника. С обеих сторон канального слоя, в направлениях к подложке и от подложки, расположены последовательно слой нелегированного широкозонного полупроводника, слой легированного широкозонного полупроводника, сформированный как дельта-с...
2649098![Способ активно-импульсного видения Способ активно-импульсного видения](https://img.patentdb.ru/i/200x200/75272c15d9052df7333492b30f27c783.jpg)
Способ активно-импульсного видения
Способ активно-импульсного видения основан на использовании возможностей ПЗС фотоприемника со строчным переносом. Способ включает подсветку сцены импульсным источником излучения, восприятие отраженного света с помощью фотоприемного устройства и визуализацию. Непосредственно перед приходом отраженного света подают управляющий сигнал обнуления ячеек секции накопления, далее через заданный промежуток...
2657292![Датчик пульсовой волны Датчик пульсовой волны](https://img.patentdb.ru/i/200x200/dd46689d6eed28574c0f4d9df48bb1f4.jpg)
Датчик пульсовой волны
Изобретение относится к медицинской технике. Датчик пульсовой волны содержит кремниевую микроканальную мембрану (1) с диэлектрическим слоем (2) на поверхности, камеру (5), упругие мембраны (6), электроды (3). Камера заполнена рабочей жидкостью (8) и соединена с возможностью формирования внутренних полостей камеры и перемещения рабочей жидкости (8) между внутренними полостями камеры с кремниевой ми...
2659625![Термомеханический привод для перемещения оптических компонентов объектива Термомеханический привод для перемещения оптических компонентов объектива](https://img.patentdb.ru/i/200x200/852ebf3392373996e92b18a760143206.jpg)
Термомеханический привод для перемещения оптических компонентов объектива
Термомеханический привод для перемещения оптических компонентов объектива состоит из соединенных попарно пластин с разными коэффициентами температурного расширения (КТР), при этом первая пластина в паре с малым КТР соединена со второй пластиной в паре с большим КТР таким образом, что суммарное перемещение ΔL(Т) конца второй пластины относительно неподвижного конца первой пластины при изменении те...
2664765![Способ получения водной суспензии графена для проводящих чернил Способ получения водной суспензии графена для проводящих чернил](https://img.patentdb.ru/i/200x200/1abfd1f0968149fb20ec06b23db082c0.jpg)
Способ получения водной суспензии графена для проводящих чернил
Изобретение относится к электронике и нанотехнологии и может быть использовано в 2D-печати. Сначала получают графеновые частицы электрохимическим расслоением графита, характеризующегося массой чешуек около 10 мг, в жидкой фазе с использованием в качестве электролита водного 0,00005-0,05 М раствора (NH4)2S2O8, в течение 10 мин и менее, при напряжении не более 15 В и подаче на графитовый электрод...
2665397